製品の説明
当社のアルミクロム合金ターゲットは、先進的な熱間静水圧プレスプロセスを採用しています。製品には長方形ターゲット、アークターゲット、大アスペクト比の一体成形チューブターゲットなどがあり、幅広い組成比、高純度、高密度、小さく均一な結晶粒、長寿命などの利点があります。お客様のご要望に応じて自由に調整でき、実際の密度は99％近くになります。
以下はアルミニウムクロムターゲットの製造工程である。
原材料 - 粉末混合 - 被覆 - 合金粉末化 - 被覆プレス - 熱間静水圧プレス - 金属組織検査 - ワイヤー切断 - 機械加工 - 寸法検査 - 洗浄 - 包装
アルミニウムクロム合金スパッタリングターゲットの金属組織検査
鍛造、圧延、熱処理を繰り返すことで、ターゲット材料の微細構造を適切に調整し、必要な効果を得ることができます。スパッタリングターゲット材料の粒径が均一であれば、ユーザーは良好なスパッタリング速度と均一なコーティングフロアを得ることができます。下の写真は、平均粒径が1.5μmのアルミニウムクロム（AlCr 70/30at％）スパッタリングターゲットの顕微鏡組織検査写真です。<100μm.
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アイテム |
金属アルミニウムクロムスパッタリングターゲット（AlCrターゲット）AlCr30at% AlCr50at% AlCr40wt%など |
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材料 |
アルミニウム金属材料 |
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純度 |
99.9%-99.95%, 3N,3N5 |
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サイズ |
10x10x10mm、1-10mm、D3x3mm、1インチ、2インチ、3インチ、またはリクエストに応じて |
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色 |
メタリックカラー |
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形 |
ペレット、顆粒、平面/円形/プレート/回転/棒、ご要望に応じて。 |
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表面 |
研磨された表面 |
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Cr密度 |
7.19g/cm3 |
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Cr融点 |
1890度 |
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応用 |
PVDフィルムコーティング、光学薄膜コーティング、産業用途、プロセス、半導体分野、実験など |
利用可能な構成
AlCr70/30at% スパッタリングターゲット
AlCr50/50at% スパッタリングターゲット
AlCr60/40at% スパッタリングターゲット
AlCr30/70at% スパッタリングターゲット
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