PVDコーティング材
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Cuバックプレート付き4N ZrO2スパッタリングターゲット当社のバッキング プレート付き二酸化ジルコニウム スパッタリング ターゲットは、高純度の二酸化ジルコニウム素材を使用して製造されており、金属バッキング...もっと
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Ta 5at%ドープZrCスパッタリングターゲット炭化ジルコニウムに 5 原子パーセント比のタンタルを正確にドーピングすることで、ターゲット材料の高温耐性、熱衝撃耐性、耐食性が大幅に向上します。-高純度かつ均一な密度を誇り、スパッタリング時の膜品質に優れています。半導体、ハードコーティング、航空宇宙産業にわたって広く利用されています。コーティングプロセスの信頼性と効率を高めるために、このターゲット材料を選択してください。もっと
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4N IGZOスパッタリングターゲット当社の 4N IGZO スパッタリング ターゲットは、より安定した効率的なスパッタリング パフォーマンスを実現します。ハイエンドのディスプレイおよび半導体アプリケーションに特化しており、優れた電子移動度および鮮明な画像の実現を促進します。-もっと
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Cu バックプレート付き 4N HfO2 ターゲット銅裏打ち付き 4N HfO₂ スパッタリング ターゲットは、純度 99.99% の酸化ハフニウム材料を使用しています。銅バッキングと統合されているため、優れた熱伝導性を備え、光学コーティング、半導体製造、真空コーティングプロセスに最適です。高純度、構造安定性、均一な成膜を特徴とするこのターゲットは、コーティング効率と製品品質の両方の向上に役立ちます。もっと
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2% Ti ターゲットでドープされた 4N HfO22% Ti- ドープ HfO₂ スパッタリング ターゲットは、2% チタンを正確にドープした高純度酸化ハフニウム基板を使用して製造されています。-。組成の均一性と高密度が特徴で、光学コーティング、半導体薄膜の蒸着、機能性コーティングの調製などの用途に最適です。優れた熱安定性と電気特性を示すこのターゲットは、安定した制御可能なスパッタリング...もっと
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4N HfO2 スパッタリングターゲット4N 高純度二酸化ハフニウム スパッタリング ターゲット (純度 99.99%) - 光学コーティング、半導体、精密エレクトロニクスの用途に適しています。高密度、均一な組成、安定したスパッタリング性能が特徴です。もっと
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カスタマイズ可能な 4N カーボン スパッタリング ターゲット当社の高純度 4N カーボン スパッタリング ターゲットは、99.99% 純度のカーボン材料から製造されており、不純物レベルが低いことが特徴で、半導体、光学薄膜、科学研究用コーティングの用途に最適です。緻密で均一な構造と優れた導電性を特徴とするターゲットであり、スパッタリング時に安定した成膜が可能です。さまざまな機器システムの特定の要件を満たすために、サイズと形状の両方のカスタマイズ...もっと
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B4Cスパッタリングターゲット高純度の炭化ホウ素原料を利用したこの製品は、並外れた硬度と堅牢な熱安定性を特徴としており、半導体製造、光学コーティング、耐摩耗性フィルムの製造における用途に最適です。-安定した品質と均一な組成を提供し、コーティング効率と製品寿命を効果的に高めます。多様なプロセス要件を満たすためにカスタム仕様が利用可能です。もっと
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カスタムホウ素スパッタリングターゲット当社は、半導体およびコーティング プロセスに最適な高純度で高密度のホウ素ターゲットを提供しています。{0}均一で安定したコーティングを確保するために不純物レベルを厳密に管理し、技術図面に基づいたカスタム製造をサポートします。もっと
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カスタマイズされた高純度 Hf スパッタリング ターゲット当社では、均一な密度と微細な微細構造を備えた、純度 99.9% を超えるカスタムメイドの高純度ハフニウム スパッタリング ターゲットを提供しています。-半導体チップ、光学コーティング、航空宇宙用途向けに特別に設計されており、より緻密なコーティングと優れた導電性を保証します。図面寸法のカスタマイズがサポートされており、短納期で最先端の研究開発と量産が容易になります。-もっと
当社は、高品質のカスタマイズされたサービスを提供することに特化している、中国のプロの PVD コーティング材料サプライヤーです。在庫の PVD コーティング材料を割引価格で購入し、当社の工場から無料サンプルを入手することを心より歓迎いたします。価格のご相談は、当社までご連絡ください。
