合金スパッタリングターゲット

• ZRTIスパッタリングターゲット

  ZRTIスパッタリングターゲットは、主に電子情報産業、ガラスコーティングフィールド、高温腐食耐性材料、ハイエンド装飾製品、タッチスクリーン業界、太陽光発電業界などで使用されます。

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• ZRTIスパッタターゲット

  ZRTIスパッタターゲットは、一般的に使用される金属スパッタリングターゲットの1つであり、平面ターゲット、スプレーターゲット、回転ターゲットなどに分割し、イオン真空産業とマグネトロンスパッタリングプロセスで重要な役割を果たすことができます。

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• ジルコニウムチタンZRTIスパッタリングターゲット

  ジルコニウムチタンZRTIスパッタリングターゲットは、業界のマルチアークイオン真空コーティングまたはマグネトロンスパッタリングPVDで広く使用されており、耐摩耗性材料、装飾的なコーティング、または機能的コーティングとして使用できます。

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• チタンシリコンスパッタリングターゲット

  チタンシリコンスパッタリングターゲットには、自動車用ガラスコーティング、ディスプレイコーティング産業、半導体産業、電子工学、金属加工、装飾業界などに適した、高機械強度、良好な耐摩耗性、強い耐食性、および優れた耐衝撃性の特性があります。

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• CR-Ti合金スパッタリングターゲット

  CR-Ti合金スパッタリングターゲットによってスパッタにされた高品質の薄型コーティングは、時計、エレクトロニクス、制御コンポーネント、その他多くの製品の装飾的なコーティングとして使用されて、光沢のある色を与えるだけでなく、産業用具の重要なコンポーネントにも付着しています。耐衝撃性と耐摩耗性を高めるために表面上。その特定のサイズの仕様は、描画によってカスタマイズできます。必要に応じて、お問い合...

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• クロムチタンスパッタリングターゲット

  チタンクロム合金は、主に発電所でのコンデンサー、エンジン用のコンプレッサー部品、電気分解産業の電極、およびオイル精製のヒーターの生産用に、工業分野でよく使用されます。さらに、それらは航空宇宙および科学研究のさまざまな重要な要素としてよく使用されます。

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• クロムチタン合金スパッタリングターゲット

  クロムチタン合金スパッタリングターゲットは、強い耐衝撃性、高い耐食性、高いコーティングの質、長いサービス寿命、優れた導電率の特性を持っています。スパッタリングターゲットはすべて品質についてテストされているため、自信を持って製品を注文できます。

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• タングステンチタン（WTi）スパッタリングターゲット

  タングステン チタン スパッタリング ターゲットは、半導体や薄膜太陽電池に広く使用されている粉末冶金技術によって製造されています。

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• アルミニウムネオジム（AlNd）スパッタリングターゲット

  アルミニウムネオジム合金は、一般的に使用されているマグネトロンスパッタリングターゲットです。アルミニウムの融点は 660 度、密度は 2.7、熱伝導率は 0.53 です。一方、ネオジムの融点は 1024 度、密度は 7.0、熱伝導率は 0.031 です。

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• アルミニウム銅（AlCu）スパッタリングターゲット

  アルミニウム銅スパッタリングターゲットは、硬度、引張強度が高く、軽量であるため、さまざまな産業や用途に最適です。通常、銅含有量は 1-3% で、アルミニウムと同様の化学的性質を持っています。

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• アルミニウムスカンジウム（AlSc）スパッタリングターゲット

  スカンジウムはアルミニウムに対して優れた分散強化効果を持ちます。熱間加工または焼鈍状態では安定した非再結晶構造です。一部の合金は冷間圧延板であり、変形が大きく、焼鈍後もこの構造を保持します。

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• アルミニウムシリコン（AlSi）スパッタリングターゲット

  ターゲットは、アルミニウムとシリコンの粉末を混合し、完全な密度になるまで圧縮することによって製造されます。このように圧縮された材料は、必要に応じて焼結され、その後、目的のターゲット形状に成形されます。

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