酸化亜鉛/酸化アルミニウム（AZO-ZnO/Al2O3）スパッタリングターゲット

当社工場では、半導体、化学蒸着 (CVD) および物理蒸着 (PVD) ディスプレイや光学アプリケーションで使用するために、可能な限り最高の密度と最小の平均粒径を備えた高純度のアルミニウム添加酸化亜鉛 (AZO) スパッタリングターゲットを生産しています。

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製品の説明

ディスク、長方形、円柱、階段、カスタム形状など、さまざまな形状の酸化亜鉛/酸化アルミニウム (AZO) スパッタリングターゲットを製造します。円形ターゲットの一般的な直径は、1 インチ、2 インチ、3 インチ、4 インチ、または 50mm、60mm、80mm、100mm などです。一般的な厚さは、0.125 インチと 0.25 インチ、または 3mm、4mm、5mm、6mm などです。

当社のスパッタリングターゲットは、ご要望に応じて銅のバッキングプレートと結合できます。また、酸化亜鉛/酸化アルミニウム (AZO) スパッタリングターゲットは、さまざまな純度、形状、サイズでカスタムメイドすることもできます。

原材料の選択からホットプレス焼結の温度、圧力、時間の制御まで、当社は特定の製造プロセスを厳密に遵守しているため、完成したセラミックスパッタリングターゲットは、高純度、高密度、斑点や亀裂のない均一な表面色という特性を備えており、エンドユーザーはPVDプロセス中に一定の侵食率と高純度で均質な薄膜を得ることができます。

酸化亜鉛/酸化アルミニウム（AZO）スパッタリングターゲット

通常の組成: ZnO/Al2O3=98/2wt%、99/1wt%など

純度：99.99%;

製造方法：ホットプレス焼結

利用可能な寸法:

円形: 直径=1", 2", 3" および 4"、その他のサイズはカスタマイズ可能

長方形: 長さ=3mm および 6mm