イオン注入タングステンフィラメント
イオン注入タングステンフィラメント

イオン注入タングステンフィラメント

高純度イオン注入タングステンフィラメントは、イオン注入装置で使用されるフィラメントです。イオンを加速してターゲット材料に注入するイオン注入プロセスの過酷な条件に耐えられるように設計されています。
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製品の説明

 

高純度イオン注入タングステンフィラメントは、イオン注入装置で使用されるフィラメントです。イオンを加速してターゲット材料に注入するイオン注入プロセスの過酷な条件に耐えられるように設計されています。

 

イオン注入タングステン線は、主に半導体製造工程におけるイオン注入装置に使用される重要な部品です。このタイプのタングステン線は半導体装置において重要な役割を果たしており、その品質と性能はICプロセスラインの効率に直接影響します。イオン注入装置は大規模集積回路の製造工程における重要な装置であり、イオン源としてのタングステン線の役割は無視できません。

 

仕様

 

寸法

カスタマイズ

応用

半導体

表面

磨かれた

純度

99.95%

材料

W1

密度

19.3g/cm3

実行基準

GB/T 4181-2017

融点

3400度

不純物含有量

0.01%

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