コバルトスパッタリングターゲット

コバルトは脆くて硬い金属で、外観は鉄やニッケルに似ています。金属透過性は鉄の約 3 分の 2 です。コバルトは、広い温度範囲で 2 つの同素体の混合物として存在する傾向があります。この変化は遅く、コバルトの物理的特性に関する報告データに幅広いばらつきがある理由の 1 つです。

融点: 1495度 沸点: 2927度

スパッタリング ターゲットは、イオン ビーム衝撃用の原子スパッタリング ソースとして使用される高純度材料のディスクです。必要なスパッタ ターゲットのサイズや純度がリストにない場合は、お問い合わせください。

スパッタリングは薄膜堆積において広く使用されている方法であり、エネルギー粒子によるターゲットの衝撃により固体ターゲット材料から原子が放出される物理蒸着 (PVD) プロセスを採用しています。

コバルトスパッタリングターゲットの場合、ターゲット材料として高純度コバルトが使用されます。プロセスは、スパッタリングチャンバー内で通常はアルゴンガスを使用してプラズマを生成することから始まります。プラズマからのイオンは、ターゲット表面からコバルト原子を除去するのに十分なエネルギーでコバルトターゲットに向かって加速されます。これらのコバルト原子は放出されると、真空チャンバーを横切って基板上に堆積し、目的の特性を持つ薄膜を形成します。ターゲットに適用される電力、真空レベル、ガス組成などのスパッタリング条件は、厚さ、均一性、結晶構造などの必要な膜特性を実現するために、綿密に制御されます。

スパッタリングによって生成されるコバルト (Co) 薄膜コーティングは、コバルトの磁気特性、耐摩耗性、化学的安定性により、さまざまな分野で不可欠なものとなっています。これらのフィルムは、主にデータ ストレージ業界で磁気記録媒体として使用されています。また、磁気センサー、誘導部品、マイクロ電気機械システムの製造など、エレクトロニクス業界でも使用されています。

コバルトターゲットスパッタリングターゲットは、99.99%コバルトの高純度金属から作られています。

標準厚さ 0.1 mm (100µm) ご要望に応じて他の厚さもご用意できます

使用可能な直径 Ø 20.0 mm、20.4 mm、32 mm、39 mm、42 mm、50 mm、50.8 mm、54 mm、57 mm、60 mm、63.5 mm、75 mm、76 mm。

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