99.95% Hf ハフニウムスパッタリングターゲットの説明
YITECH ハフニウム (Hf) スパッタリング ターゲットから作られたハフニウム- ベースの薄膜は、新世代の半導体の絶縁体として使用されています。当社のハフニウム スパッタリング ターゲットは、精製された結晶棒から作られており、ジルコニウム含有量が低く、高純度で、高い信頼性が保証されています。薄膜はシリコンへの銅の拡散を防ぎます。アモルファス酸化ハフニウムは誘電率が高いため、ゲートリーク電流を低減でき、エレクトロニクスの性能が向上します。
99.95% Hf ハフニウムスパッタリングターゲットの用途
• エレクトロニクス
• 半導体
• フラットパネルディスプレイ
99.95% Hf ハフニウムスパッタリングターゲットの仕様
| 材質の種類 | ハフニウム |
| シンボル | Hf |
| 原子量 | 178.49 |
| 原子番号 | 72 |
| 色・外観 | グレースチール、メタリック |
| 熱伝導率 | 23 W/m.K |
| 融点 (度) | 2,227 |
| 熱膨張係数 | 5.9 x 10-6/K |
| 理論密度 (g/cc) | 13.31 |
| Z比 | 0.36 |
| スパッタリング | 直流 |
| 最大電力密度 (ワット/平方インチ) |
50* |
| 純度 | 99.9%(EX Zr) |
| サイズ | 直径. 1インチ- 8インチ |
| 債券の種類 | インジウム、エラストマー |
99.95% Hf ハフニウム スパッタリング ターゲットに関する FAQ
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