タンタルスパッタリングターゲットディスク

タンタルスパッタリングターゲットは、主に半導体産業や光学コーティング産業に応用されています。当社は、真空EB炉製錬法を通じて、半導体産業や光学産業のお客様のご要望に応じて、さまざまな仕様のタンタルスパッタリングターゲットを製造しています。

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製品の説明

タンタルスパッタリングターゲットは、主に半導体産業と光学コーティング産業で使用されています。当社は、真空EB炉製錬法によって、半導体産業と光学産業のお客様のご要望に応じて、さまざまな仕様のタンタルスパッタリングターゲットを製造しています。当社は、ディスクターゲット、長方形ターゲット、回転ターゲットなど、さまざまな寸法のタンタルスパッタリングターゲットを製造しています。

仕様

当社は、ASTM B708 規格に適合する R05200、R05400 ターゲットを製造しており、お客様から提供された図面に従ってターゲットを製作できます。当社は、高品質のタンタルインゴット、高度な設備、革新的な技術、専門チームの利点を活かして、お客様のご要望に応じたスパッタリングターゲットをカスタマイズします。