アルミニウムネオジム（AlNd）スパッタリングターゲット

アルミニウムネオジム合金は、一般的に使用されているマグネトロンスパッタリングターゲットです。アルミニウムの融点は 660 度、密度は 2.7、熱伝導率は 0.53 です。一方、ネオジムの融点は 1024 度、密度は 7.0、熱伝導率は 0.031 です。

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製品の説明

アルミニウムネオジム合金は、一般的に使用されているマグネトロンスパッタリングターゲットです。アルミニウムの融点は660度、密度は2.7、熱伝導率は0.53ですが、ネオジムの融点は1024度、密度は7.0、熱伝導率は0.031です。融点、密度、熱伝導率の大きな違いにより、真空溶解法で直接製造すると、溶解プロセスで偏析や飛沫が発生しやすく、汚染を引き起こし、合金構造が不均一になり、不純物含有量が高くなり、合金の品質に重大な影響を及ぼします。

仕様

名前	AlNd合金ターゲット
材料	アルミニウムネオジム合金
純度	>4N >99.99%
サイズ	カスタマイズ
色	銀
形	カスタマイズ
表面	研磨面；Ra1.6μm以下
密度	≈2.72g/cm³（ネオジムとアルミニウムの比率に基づく）
応用	液晶ディスプレイ、タッチパネル、PVDフィルムコーティング、真空コーティングなどに使用されます。