B4Cスパッタリングターゲット

B4Cスパッタリングターゲットの説明

炭化ホウ素 (B4C) スパッタリング ターゲットは、基板表面に炭化ホウ素薄膜を堆積する物理蒸着 (PVD) プロセス-特にマグネトロン スパッタリング-で主に使用される高性能セラミック ターゲットです。-これらの薄膜は、その並外れた物理化学的特性によって際立っており、数多くのハイテク分野で重要な用途に使用されています。-炭化ホウ素ターゲットは通常、円形ディスク形式で製造され、一般的な直径は 50.8 mm および 76.2 mm で、利用可能な厚さは 3 mm ～ 6 mm の範囲です。純度レベルは 99% から高純度 4N グレードまで多岐にわたり、科学研究と産業用途の両方の多様な要件に対応します。-さらに、設置と使用を容易にするために、銅製バッキングプレートへの接着などのサービスも利用できます。

B4Cスパッタリングターゲットの特徴

卓越した硬度: その硬度はダイヤモンドおよび立方晶窒化ホウ素に次ぐものであり、「黒いダイヤモンド」というあだ名が付けられています。
優れた高温耐性: 融点が約 2350 度に達し、高温環境でも安定した性能を維持します。-。
優れた化学的安定性: ほとんどの酸に対して化学的に不活性ですが、溶融アルカリには溶解します。
低密度で高中性子吸収断面積-: 密度が約 2.52 g/cm3 で、放射性同位体を生成することなく中性子を効果的に吸収するため、原子力産業において非常に重要です。
高純度の要件: 高性能ターゲット材料の調製に使用する場合、炭化ホウ素粉末は通常 99% を超える純度レベルを必要とします。{0}最終製品の性能を確保するには、酸素、鉄、シリコンなどの不純物--を厳密に管理することが不可欠です。

B4Cスパッタリングターゲットの用途

耐摩耗性および保護コーティング-: 機械部品や工具に超硬質の耐摩耗性コーティングを施し、耐用年数を大幅に延ばします。-装甲保護の分野にも応用されています。
航空宇宙: 極端な温度や過酷な環境に耐える必要があるコンポーネントの表面コーティングに使用されます。
核エネルギーと中性子の検出: 原子炉で使用する理想的な中性子吸収材として機能します。-高性能、大面積の炭化ホウ素薄膜が中性子検出器に適用され、主要な技術とデバイスの局在化が達成されています。-
半導体および機能性薄膜: ガラス、金属、プラスチックなどのさまざまな基板上に機能性薄膜を蒸着します。

B4Cスパッタリングターゲットの仕様

B4C スパッタリング ターゲットの品質管理とテスト

B4Cスパッタリングターゲットに関するFAQ

あなたは 工場または aメーカー？
A: はい、弊社はB4Cスパッタリングターゲット工場ですが、海外での取引は通常弊社の商社を利用しております。送金の受け取りや発送の手配がより便利になります。

配送方法は何ですか？
A: 通常、B4C スパッタリング ターゲットは UPS、DHL、または FedEx で発送されます。また、港までは船便で、最寄りの空港までは空路でお送りすることも可能です。

B4C スパッタリング ターゲットが非常にコスト効率が高いのはなぜですか?-
A: 当社はエンドツーエンドの製造プロセスにおいて中間業者を排除し、原材料を供給元から直接入手しています。{0}{1}

スポット品質検査を行っていますか?製品?
A: 100% 完全検査は確実です。不適格な B4C スパッタリング ターゲットはすべて廃棄されます。

リードタイムをどのように確保しますか?
A: 材料の準備から加工、そして最終的に完全な検査まで。正確な納期を提供するために、生産のすべての段階が厳密に監視および制御されます。

B4C スパッタリング ターゲットの MOQ はいくらですか?
A: B4C スパッタリング ターゲットの量によって異なります。通常、MOQ制限はありません。

支払い方法製品?
A: 銀行振込 (T/T) が可能です。

納期はどれくらいですか？
A: B4C スパッタリング ターゲットの量と生産量によって異なりますが、約 7 ～ 20 日かかります。

どのようなパッケージですか?
A: 通常、B4C スパッタリング ターゲットの安全性を確保するために、内部に保護材が入ったカートン ケースまたは合板ケースを使用します。

リードタイムはどれくらいですか?
A: ご注文から貨物の受け取りまでは約10〜25日かかります。

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