銅（Cu）ペレット

銅スパッタリングターゲットは、金属銅（Cu）と同じ特性を持っています。銅は、記号Cu（ラテン語：cuprum）で原子番号29の化学元素です。銅は、非常に高い熱伝導性と電気伝導性を持つ、柔らかく、展性があり、延性のある金属です。露出したばかりの純銅はピンクがかったオレンジ色です。銅は、熱と電気の伝導体、建築材料、さまざまな金属合金の成分として使用されます。銅スパッタリングターゲットは溶解技術によって製造され、半導体、装飾コーティング、高度な包装分野に広く応用されています。

当社の銅スパッタリングターゲットは純度99.9%～99.9999%で、酸素含有量が最も低く、<1ppm, it is mainly used for display screen and touch screen wiring and protective film, solar light absorbing layer, semiconductor wiring, etc. We not only produce planar copper sputtering targets (maximum G8.5 generation), but also copper rotary targets, which are mainly used for the touch screen industry. Since it is difficult to break the grain, we can only process with very large deformation and control the growth of twins to achieve a fine and uniform microstructure, which ensure a lower erosion rate and sensitivity of the formation of particles during sputtering.

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