製品の説明

タンタルスパッタリングターゲットは、高純度の鋼灰色タンタル金属で構成されています。タンタルは、耐腐食性に優れた青灰色の光沢のある遷移金属です。耐火金属のカテゴリに属し、合金のマイナー成分として広く使用されています。タンタルは暗色（青灰色）で、密度が高く、延性があり、非常に硬く、製造が容易で、熱伝導性と電気伝導性が高いです。この金属は酸腐食に対する耐性があることで知られています。実際、150度未満の温度では、タンタルは通常の王水に対してほぼ完全に耐性があります。

タンタルスパッタリングターゲットは、EB 溶解法で製造されます。通常は、磁気記録媒体、プリンター部品、フラットパネルディスプレイ、光学、工業用ガラス、薄膜抵抗器に使用されます。高純度タンタルスパッタリングターゲットは、通常、半導体産業で使用されます。高い自然強度と低い熱膨張係数、銅とシリコンの両方に付着する能力により、銅とシリコンの相互作用を防ぐ拡散バリアとして最適です。

Yitech は、さまざまな形状と純度のタンタルスパッタリングターゲットの専門メーカーです。これらのターゲットは、主に半導体およびマイクロエレクトロニクス業界に使用されています。当社の特殊な成形プロセスにより、当社のタンタルスパッタリングターゲットは、高密度、平均粒子サイズが小さく、純度も高くなっています。そのため、スパッタリング速度が速いため、プロセスが高速化され、非常に均質なタンタル層が得られます。

弊社の柔軟な製造プロセスにより微細構造を調整し、希望する効果を得ることができます。スパッタリングターゲットの粒子が均一に整列していれば、ユーザーは一定の侵食速度と均一な層というメリットを得ることができます。以下は、平均粒子サイズが 100μm 未満の弊社のタンタルスパッタリングターゲットの顕微鏡写真 2 枚です。

属性名:高純度金属スパッタリングターゲット

製品名:タンタルスパッタリングターゲット

元素記号:Ta

純度:3N5、4N、4N5、5N

形状:平面ターゲット、回転ターゲット