酸化アルミニウム(Al2O3)スパッタリングターゲット
酸化アルミニウム(Al2O3)スパッタリングターゲット

酸化アルミニウム(Al2O3)スパッタリングターゲット

酸化アルミニウムターゲット材料は、高純度、高密度のセラミック材料であり、優れた安定性を備えているだけでなく、極端な熱環境にも耐えることができます。マイクロエレクトロニクス、精密光学、表面工学などの分野で重要な役割を果たします。
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製品の説明

 

酸化アルミニウムターゲット材料は、高純度、高密度のセラミック材料であり、優れた安定性を備えているだけでなく、極端な熱環境にも耐えることができます。マイクロエレクトロニクス、精密光学、表面工学などの分野で重要な役割を果たします。

 

応用分野

 

半導体製造: 集積回路内の絶縁層と導電層を作成するために使用され、チップのパフォーマンスを向上させるために重要です。

光学コーティング: 光学機器の耐久性と性能を向上させる反射鏡や保護コーティングの製造に使用されます。

表面工学: 耐摩耗性と耐腐食性を向上させるために工業用ナイフや機械部品に使用されます。

 

特定のアプリケーションコンポーネント

 

マイクロ電子デバイス: 電子デバイスの安定した動作を確保するためのトランジスタやコンデンサ内の絶縁層など。

光学部品: 画質を向上させるカメラレンズや望遠鏡の反射鏡など。

ハードコーティング: 工業用ブレードやドリルの耐用年数を延ばすために使用されます。

 

仕様

 

製品:

Al2O3アルミナスパッタリングターゲット

純度:

99.99%

サイズ:

カスタマイズ

形:

円形または長方形

テクノロジー:

ホットプレス

応用:

PVDコーティング業界

パッキング:

真空パック、輸出用カートンまたは木箱の外側

 

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