製品の説明
一酸化ケイ素は、化学式SiOの無機化合物です。常温常圧では黒褐色から黄土色の非晶質粉末です。融点は1702℃、沸点は1880℃、密度は2.13g/cm3で、水には溶けません。
用途：真空中で蒸発させ、光学機器に使用される金属反射板表面に保護膜として塗布します。半導体材料の製造。
一酸化シリコンスパッタリングターゲット;
純度：99.99%;
製造方法：ホットプレス焼結、真空熱噴射。
利用可能な寸法
円形ターゲット: カスタマイズ
長方形ターゲット: カスタマイズ
ロータリーターゲット: カスタマイズ
最小注文数量: 1 個;
結合の種類: インジウム、エラストマー;
仕様
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製品： |
SiO スパッタリングターゲット |
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純度： |
99.9% |
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サイズ： |
カスタマイズ |
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形： |
平面 |
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テクノロジー： |
粉末冶金 |
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パッキング： |
真空密封木製ケース |
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