PVDコーティング材

ホウ素（B）スパッタリングターゲット
ホウ素スパッタリングターゲットはホウ素と同じ特性を持っています。ホウ素は、アラビア語の「ブラーク」に由来する化学元素で、これはホウ砂の名称です。「B」はホウ素の標準的な化学記号です。ホウ素の豊富さは、地殻で 3 番目にランクされています。
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アルミニウム亜鉛酸化物（AZO）スパッタリングターゲット
AZO ターゲット（正式名称は酸化亜鉛アルミニウムターゲット）は、特殊なドープ半導体材料です。具体的には、酸化亜鉛（ZnO）とアルミニウム（Al）で構成された複合材料で、通常は ZnO:Al と表記されます。AZO ターゲットは、その独特の物理的および化学的特性により、さまざまな科学技術分野で幅広い用途に使用されています。
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チタン酸バリウム（BaTiO3）スパッタリングターゲット
チタン酸バリウムは、オプトエレクトロニクス用途やコンデンサの誘電セラミックとして使用される結晶性固体で、誘電率は 7,000 と非常に高い。多結晶チタン酸バリウムは抵抗の温度係数が正であるため、サーミスタや自己制御型電気加熱システムで有用である。
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窒化ホウ素（BN）スパッタリングターゲット
窒化ホウ素（BN）は窒素原子とホウ素原子からなる結晶です。通常は黒、茶色、または暗赤色です。閃亜鉛鉱構造を持ち、熱伝導性が良く、硬度はダイヤモンドに次ぐものです。超硬質材料であり、工具材料や研磨剤としてよく使用されます。
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炭化ホウ素（B4C）スパッタリングターゲット
炭化ホウ素: 19 世紀に金属ホウ化物研究の副産物として発見されましたが、1830 年代まで科学的に研究されていませんでした。窒化ホウ素、ダイヤモンド、フラーレン化合物、ダイヤモンドモノリスに次いで 5 番目に硬い物質として知られています。
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酸化セリウム（CeO2）スパッタリングターゲット
酸化セリウムは、化学式 CeO2 の無機物質で、淡黄色または黄褐色の粉末です。密度は 7.13g/cm3、融点は 2397 度、水とアルカリに不溶、酸にわずかに溶けます。2000 度、15MPa で、酸化セリウムを水素で還元すると、三酸化セリウムが得られます。
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酸化ハフニウム（HfO2）スパッタリングターゲット
ジルコニア（ZrO2）は二酸化ジルコニウムとも呼ばれ、非常に重要な高性能セラミック材料です。融点が高く、曲げ強度が高く、化学的に安定しているため、耐火物、研磨材、先進セラミックスなど、さまざまな工業用途に広く使用されています。
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酸化インジウム（In2O3）スパッタリングターゲット
酸化インジウムは、分子式 In2O3 の酸化物です。純粋な製品は白色または淡黄色の非晶質粉末で、加熱すると赤褐色に変わります。酸化インジウムは、バンドギャップが広く、抵抗率が低く、触媒活性が高い新しい n 型透明半導体機能材料です。
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インジウムスズ酸化物（ITO）スパッタリングターゲット
ITOターゲット材料、インジウムスズ酸化物は、重要な透明導電材料です。薄膜製造の分野では、ITOターゲットは電子デバイスや光電子デバイスの基本原料として広く使用されています。高い透明性を維持しながら優れた導電性を提供できるため、ITOは透明導電膜の製造に理想的な選択肢です。
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シリコン酸化物（SiO2）スパッタリングターゲット
二酸化ケイ素は、現代技術で広く使用されている材料として、その優れた物理的および化学的特性により、幅広い注目を集めています。特に、マグネトロンスパッタリング技術では、二酸化ケイ素ターゲットの応用により、薄膜材料の性能が向上するだけでなく、マイクロエレクトロニクスやオプトエレクトロニクスなどの分野での技術進歩も促進されます。
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インジウムガリウム亜鉛酸化物（IGZO）スパッタリングターゲット
当社は、高品質で競争力のある価格でインジウムガリウム亜鉛酸化物（IGZO）スパッタリングターゲットを加工しています。IGZO スパッタリングターゲットは、正式名称をインジウムガリウム亜鉛酸化物ターゲットといい、インジウム（In）、ガリウム（Ga）、亜鉛（Zn）、酸素（O）の 4 つの元素を含んでいます。
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窒化ケイ素（Si3N4）スパッタリングターゲット
窒化ケイ素スパッタリングターゲットは、窒化物セラミックスパッタリングターゲットの一種です。Si3N4 は、非常に硬く、化学的に比較的不活性な高融点セラミック材料です。Si3N4 は、粉末状のシリコンを窒素雰囲気中で 1300 度から 1400 度の間で加熱することによって製造されます。
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