PVDコーティング材

• マンガン酸リチウム（LiMn2O4）スパッタリングターゲット

  マンガン酸リチウムスパッタリングターゲットは、Li、Mn、O の元素を含む黒色のスパッタリング材料です。リチウムイオン電池用の導電性セラミック固体電解質材料です。

  もっと
• コバルト酸リチウム（LiCoO2）スパッタリングターゲット

  スパッタリングは、さまざまな材料からさまざまな形状やサイズの基板に薄膜を堆積できる実績のある技術です。

  もっと
• 酸化イットリウム（Y2O3）スパッタリングターゲット

  純度：99.99%;
  製造方法：ホットプレス焼結。
  利用可能な寸法:
  

  もっと
• 酸化ジルコニウム（ZrO2）スパッタリングターゲット

  当社は、酸化物スパッタリングターゲット、炭化物スパッタリングターゲット、フッ化物スパッタリングターゲット、硫化物スパッタリングターゲットなど、あらゆる種類のセラミックスパッタリングターゲットと複合ターゲットを製造・供給しています。セラミックスパッタリングターゲットの製造技術はホットプレスです。

  もっと
• ニオブ酸リチウム（LiNbO3）スパッタリングターゲット

  当社工場は、酸化物スパッタリングターゲット、炭化物スパッタリングターゲット、フッ化物スパッタリングターゲット、硫化物スパッタリングターゲットなど、あらゆる種類のセラミックスパッタリングターゲットと化合物ターゲットを製造・供給できます。セラミックスパッタリングターゲットの製造技術はホットプレスです。

  もっと
• 酸化亜鉛/酸化アルミニウム（AZO-ZnO/Al2O3）スパッタリングターゲット

  当社工場では、半導体、化学蒸着 (CVD) および物理蒸着 (PVD) ディスプレイや光学アプリケーションで使用するために、可能な限り最高の密度と最小の平均粒径を備えた高純度のアルミニウム添加酸化亜鉛 (AZO) スパッタリング ターゲットを生産しています。

  もっと
• タングステンチタン（WTi）スパッタリングターゲット

  タングステン チタン スパッタリング ターゲットは、半導体や薄膜太陽電池に広く使用されている粉末冶金技術によって製造されています。

  もっと
• アルミニウムネオジム（AlNd）スパッタリングターゲット

  アルミニウムネオジム合金は、一般的に使用されているマグネトロンスパッタリングターゲットです。アルミニウムの融点は 660 度、密度は 2.7、熱伝導率は 0.53 です。一方、ネオジムの融点は 1024 度、密度は 7.0、熱伝導率は 0.031 です。

  もっと
• アルミニウム銅（AlCu）スパッタリングターゲット

  アルミニウム銅スパッタリングターゲットは、硬度、引張強度が高く、軽量であるため、さまざまな産業や用途に最適です。通常、銅含有量は 1-3% で、アルミニウムと同様の化学的性質を持っています。

  もっと
• アルミニウムスカンジウム（AlSc）スパッタリングターゲット

  スカンジウムはアルミニウムに対して優れた分散強化効果を持ちます。熱間加工または焼鈍状態では安定した非再結晶構造です。一部の合金は冷間圧延板であり、変形が大きく、焼鈍後もこの構造を保持します。

  もっと
• アルミニウムシリコン（AlSi）スパッタリングターゲット

  ターゲットは、アルミニウムとシリコンの粉末を混合し、完全な密度になるまで圧縮することによって製造されます。このように圧縮された材料は、必要に応じて焼結され、その後、目的のターゲット形状に成形されます。

  もっと
• アルミニウムクロム（AlCr）スパッタリングターゲット

  当社のアルミクロム合金ターゲットは、先進的な熱間静水圧プレスプロセスを採用しています。製品には長方形ターゲット、アークターゲット、大アスペクト比の一体成形チューブターゲットなどがあり、幅広い組成比、高純度、高密度、小さく均一な結晶粒、長寿命などの利点があります。

  もっと