純粋なtiスパッタリングターゲット

純粋なTiスパッタリングターゲットには、高い純度、良好な表面磨き、良好な電気的および熱伝導率、耐衝撃性、良好な摩耗と耐食性、高い引張強度、良好な延性があります。

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純粋なtiスパッタリングターゲット

他のターゲットと比較して、金属ターゲットはセラミックターゲットよりも市場需要が高く、そのパフォーマンスは高く、サービス寿命は長くなります。スパッタリングターゲットの場合、金属の化学純度が高いほど、撮影されたフィルムの導電率と耐摩耗性が向上します。

純粋なtiスパッタリングターゲットの適用

1.装飾的なコーティング材料

2。生物学的インプラント材料

3.ゲッター材料：チタンは活性ガスに強力な吸着能力があり、超高真空ポンプシステムとスパッタイオンポンプで使用できます

4.ハイテク電子情報材料：統合された回路とフラットパネルディスプレイのための高純度チタンの消費が増加しました

純粋なtiスパッタリングターゲットの仕様

学年	グレード1、グレード2
技術	焼結、鍛造、アニーリング、ローリング、真空融解、加工
純度	99.9%-99.995%
直径	<350mm
厚さ	1-100 mm
バーのサイズ	Rectangle (Length 1800mm, Width 400mm Thickness>1mm）
チューブのサイズ	チューブ（ローターターゲット、OD：20mm -160 mm、厚さ：2-20 mm）
密度	4.5g\/cm3
表面	磨かれた、明るい化学洗浄、黒い酸化物など。
形	ディスク、プレート、長方形、正方形、列ターゲット、
標準	ASTM B385、GB、JIS