ゲルマニウム（Ge）スパッタリングターゲット

ゲルマニウムは、記号 Ge、原子番号 32 の化学元素です。炭素族に属する光沢のある、硬くて脆い灰白色の半金属で、化学的には同族のシリコンやスズに似ています。純粋なゲルマニウムは、元素シリコンに似た外観を持つ半導体です。

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製品の説明

ゲルマニウムは、記号 Ge、原子番号 32 の化学元素です。炭素族に属する光沢のある、硬くて脆い灰白色の半金属で、化学的には同族のシリコンやスズに似ています。純粋なゲルマニウムは、元素シリコンに似た外観を持つ半導体です。シリコンと同様に、ゲルマニウムは自然界で酸素と自然に反応して錯体を形成します。

ゲルマニウムスパッタリングターゲットは、5Nゲルマニウム結晶で作られています。赤外線の透過範囲が広く、可視光領域で不透明であるため、ゲルマニウムスパッタリングターゲットは、熱画像カメラの光学系にゲルマニウム薄膜を堆積するために使用されます。このような光学系は通常、パッシブ熱画像や軍事、モバイル暗視、消防用途のホットスポット検出用に8〜14ミクロンの範囲で動作します。また、非常に感度の高い赤外線検出器を必要とする赤外線分光器やその他の光学機器にも使用されます。ただし、ゲルマニウム薄膜の屈折率は非常に高いため（4.0）、反射防止フィルムでコーティングする必要があります。

ターゲット材料: ゲルマニウム Ge

結晶構造: 単結晶、多結晶

純度: 5N、6N

伝導タイプ: N型

抵抗率: 0.03-50Ω.cm

屈折率（10um）：4.0026

吸収係数（/cm）：0.03以下

光透過率: 46%

表面仕上げ: Ra 1.6um

円形ターゲットのサイズ: 直径450mm以下、厚さ0.5mm以上

長方形ターゲットサイズ: 最大205 x 205mm