ハフニウム（Hf）スパッタリングターゲット

ハフニウムスパッタリングターゲットは、金属ハフニウム（Hf）と同じ性能を持っています。ハフニウムの融点は2233度、沸点は4603度、密度は13.31g/cm3です。光沢のある銀灰色の遷移金属です。金属ハフニウムは、適度な強度、優れた耐腐食性、高い中性子吸収能力を備えています。原子力産業で広く使用されています。ハフニウムはさまざまな合金を形成でき、卑金属の表面コーティングとしても使用できます。当社は、ターゲットや粒子に加工できる、ジルコニウム含有量の少ない高純度ハフニウムを輸入して提供できます。

酸素分圧を導入することで、電気スパッタリングまたはハフニウムスパッタリングターゲットを使用した反応性スパッタリングによってハフニウム酸化物膜を作製できます。得られた薄膜は、フォトニクス用の光学コーティング、薄膜抵抗、耐腐食性、原子力製品、集積回路のゲート絶縁体、センサーなど、さまざまな用途に使用できます。

NiHfスパッタリングターゲット

NbHfTiスパッタリングターゲット

HfO2スパッタリングターゲット

HfCスパッタリングターゲット

HfB2スパッタリングターゲット

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